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12英寸前路通用化学品单片洗濯设备
半导体设备 Semiconductor
3120G系列
12英寸前路通用化学品单片洗濯设备
联系征询
公司名称：
3120G系列 12英寸前路通用化学品单片洗濯设备
3120G Series 12 lnch Front-end general chemical Single Wafer Clean Tool
重要用于集成电路领域12英寸前段洗濯工艺 ，选取堆叠式架构及多片式传输系统 ，占地幼、产能高；选取热异丙醇（IPA）干燥技术 ，实现优良的干燥成效？帕Ｈコ⒆吭 ，跻身国内一流水平。
设备特点
12 腔室堆叠平台 ，较高产能 ，最幼占地面积
双面洗濯 ，最多支持5 种化学品
较高化学品回收效能 ，较低客户使用成本
平台全系产品可配置常温、高温IPA干燥技术 ，适配先进工艺和深邃宽比图形
齐全自主知识产权
产品利用
晶圆尺寸
12英寸
合用资料
单晶硅、多晶硅、氧化硅、金属膜
合用工艺
扩散/ 沉积前洗濯 ，氧化物刻蚀洗濯 ，刻蚀/ 化学研磨后洗濯 ，金属膜刻蚀洗濯
合用领域
集成电路
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