TENESIS X308H 12英寸立式高温氧化炉
TENESIS X308H TENESIS X308H 12 Inch Vertical High-TEMP Oxidation Furnace
本产品重要利用于12英寸集成电路（IC）领域高温氧化/退火工艺占有超宽温度区间（200℃-1200℃）。该机台为立式单腔large batch炉管系统 ，工艺处置过程实现了高度自动化。系统重要由传输 ？椤⒐ひ漳 ？椤⒌缭垂竦炔棵抛槌。
- 设备特点
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- 产品利用
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- 晶圆尺寸
- 合用资料
- 合用工艺
- 合用领域
