DEMAX SN302PS 12英寸立式等离子体加强氮化硅原子层沉积炉
DEMAX SN302PS DEMAX SN302PS 12 Inch Vertical PEALD SiN ALD Furnace
本产品重要利用于12英寸集成电路（IC）领域原子层氮化硅(SiN)薄膜沉积工艺。支持等离子体加强(PE)或纯热原子层沉积工艺 ，具备多种元素掺杂技术和膜质优化（氢处置）技术 ，满足分歧场景的工艺需要。该产品可实现凹凸膜散布调整 ，通过优化气流设计提升片内及片间均匀性。同时可实现全自动工艺运行并兼具原位自洗濯职能 ，有效节造微幼颗粒、降低守护功夫以提高设备利用率 ；选取高精度温度场节造、先进的气流场节造和优异的微环境节造技术 ，可批量处置12英寸晶圆以实现高产能出产。
- 设备特点
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- 产品利用
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- 晶圆尺寸
- 合用资料
- 合用工艺
- 合用领域
