Scaler HK430 热原子层沉积系统
Scaler HK430 Thermal ALD System
Scaler HK430重要用于12英寸高介电常数资料薄膜的沉积工艺。设备可能实现优异的工艺不变性节造，达成更好的薄膜沉积均匀性及优异的颗＝谠觳。在结构系统方面，选取每腔单片式设计，在气流场均匀性、温度节造等方面阐发优异，单片工艺了局一致性大幅提高 ；在软件方面，通过全自动流程及有关数据监控、安全互锁设定等为实现不变量产提供更好的运行环境。
- 设备特点
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- 产品利用
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- 晶圆尺寸
- 合用资料
- 合用工艺
- 合用领域
