Polaris Ascella系列 12英寸钛及氮化钛薄膜沉积系统
Polaris Ascella Series 12 Inch Ti&TiN Film Deposition System
Polaris Ascella系列CVD/ALD金属薄膜沉积设备可用于沉积金属钛与氮化钛，系统重要由大气平台、真空传输平台、工艺腔室组成，选取8K平台，最多可配置6个工艺腔室，可凭据客户需要矫捷配置腔室数量。
- 设备特点
-
- 深邃宽比填充能力
- 自动供液系统
- ？榛渲煤涂衫┐笮
- 产品利用
-
- 晶圆尺寸
- 合用资料
