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Cygnus Optima Prime 介质薄膜沉积系统
Cygnus Optima Prime PECVD System
Cygnus Optima Prime产品是一款针对以硅烷为反映物造备氧化硅/氮化硅/氮氧化硅/碳氧化硅薄膜的化学气相沉积设备，合用于集成电路、功率半导体等领域，可实现对12英寸晶圆的全自动化工艺处置。该系统选取尺度化的传输系统和？榛墓ひ涨皇疑杓，配置矫捷、工艺窗口宽、职能集成度高，各项工艺技术指标均达到国际先进水平。
设备特点
多步沉积，保障了薄膜优越的均匀性以及高产能
凹凸频射频系统，Vi-Sensor 系统确保射频功率均匀分配在每个点位
腔室选取？榛杓，支持 PEOX/SiN/SiON/SiOC 工艺切换
可凭据客户需要配置腔室数量和地位
产品利用
晶圆尺寸
12英寸
沉积资料
氧化硅（硅烷）、氮化硅、氮氧化硅、碳氧化硅
合用工艺
层间介质层、金属间介质层、硬掩模、钝化层
合用领域
集成电路、先进封装、科延注新兴利用
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