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12英寸通用物理气相沉积系统
半导体设备 Semiconductor
eVictor系列
12英寸通用物理气相沉积系统
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公司名称:
eVictor系列 12英寸通用物理气相沉积系统
eVictor Series 12 Inch PVD System
eVictor系列PVD金属薄膜物理气相沉积系统重要由大气平台,真空传输平台,去气腔室,预清洁腔室和工艺腔室组成,设备选取Cluster Tool架构,可配置多个工艺腔室、预洗濯腔室和去气腔室,其中工艺腔室可凭据客户选择配置分歧工艺资料的腔室。eVictor系列PVD设备拥有反映腔自动开关盖,wafer自动传输,工艺去气,晶片表表预清洁、薄膜沉积齐全自动化等特点。
设备特点
先进的磁控溅射系统,有效提高薄膜均匀性及靶材利用率
怪异的加热基座和高温静电卡盘设计,具备优良的温度均匀性
全新双腔传输平台,可配置性强,最多可支持10个工艺?
优质的Whisker解决规划,降低产品缺点
大产能,低运营成本
产品利用
晶圆尺寸
12 英寸
合用资料
铝、氮化钽、氮化钛、钛 、ITO
合用工艺
铝焊盘、铝线、氮化钽反对层、氮化钛反对层、钛黏附层、ITO通明导电层
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