Landscape A 12英寸等离子体浸没离子注入机
Landscape A 12 Inch Plasma Doping System
Landscape A是利用于12英寸硅晶圆器件的高剂量、低能量的离子注入掺杂设备。该设备拥有高精度的能量节造和剂量节造系统 ，实现优异的掺杂均匀性和不变性。不仅合用于存储和逻辑领域的平面掺杂 ，如多晶硅栅极掺杂、源极/漏极掺杂、源极/漏极接触掺杂、加氢钝化、超浅结掺杂、资料改性等关键工艺 ，更突破传统离子注入设备局限 ，为复杂3D结构掺杂提供高效解决规划 ，量产阐发优异。
- 设备特点
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- 产品利用
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- 晶圆尺寸
- 合用资料
- 合用领域
