NMC 612E系列 12英寸ICP刻蚀机
NMC 612E Series 12 Inch ICP Etcher
NMC612E系列是利用于12英寸等离子体干法刻蚀设备。该设备拥有更矫捷的脉冲等离子体节造技术，实现对等离子成分和离子能量的精确调控，可能实现更幼尺寸、更深邃宽比刻蚀的精准描摹节造能力，并建设多区温控静电吸附卡盘，实现更精确的温度节造 ；同时具备高均一气流场节造系统及矫捷气流场散布调节能力，能够实现优异的wafer均匀性节造。NMC612E系列设备重要利用于浅槽隔离刻蚀、栅极刻蚀、侧墙刻蚀、自对准多沉图形化曝光、钨刻蚀、金属硬掩膜刻蚀、高K值介质刻蚀，利用于Logic、DRAM、3D NAND、微显示、硅光等领域，量产经验丰硕。
