NMC 612D 12英寸硅刻蚀机
NMC 612D 12 Inch Silicon Etcher
NMC612D是利用于12英寸硅刻蚀的等离子体干法刻蚀设备。该设备拥有脉冲等离子体节造技术 ，提供矫捷的工艺调试能力 ，可能实现精准的刻蚀描摹节造 ，并具备多区温控静电吸附卡盘 ，提高晶圆温度均匀性。NMC612D重要利用于浅沟槽隔离刻蚀 ，栅极刻蚀、侧墙刻蚀等刻蚀工艺 ，已在Logic、3D NAND、DRAM、CIS、Power以及硅光等领域实现不变量产 ，量产经验丰硕。
- 设备特点
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- 产品利用
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- 晶圆尺寸
- 合用资料
- 合用领域
