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多职能刻蚀机
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公司名称：
GSE C200 多职能刻蚀机
GSE C200 Multi-functional Etcher
GSE C200多职能刻蚀机重要用于科研/高校/新兴领域的8英寸及以下硅/介质/金属/化合物等多种资料干法刻蚀。选取高密度可调等离子体源和全控温设计，均匀性好，易守护，机能不变。设备兼容手动、自动两种运行模式，12路气体配置，提供丰硕的工艺数据库支持，充分满足新工艺研发、失效分析等场景使用需要。
设备特点
12路气体配置，8吋及以下尺寸兼容，合用多资料失效分析。
手动/自动兼容，优异的颗＝谠，运营成本低。
提供研发所需的丰硕的工艺数据库支持。
产品利用
晶圆尺寸
8"及以下
合用领域
新兴利用与科研领域设备
合用工艺
多种资料刻蚀工艺
合用资料
硅、氧化硅、氮化硅、氮化镓、金属、有机物等
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