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ACE E300

高选择比刻蚀机

ACE E300 高选择比刻蚀机

ACE E300 High Selectivity Etcher

ACE E300 刻蚀设备面向12英寸后摩尔时期逻辑芯片与 3D 结组织程场景，整机搭载超高效能离子过滤硬件？槭迪至Ｗ幽芰烤脊芸。依附离子过滤精密能量调控主题技术，兼容硅、介质、金属多类薄膜刻蚀及 3D 横向刻蚀工艺，达成超高刻蚀选择比，实现底层/停阶级零等离子危险，搭配OES Plus监测腔室不变性，节造刻蚀速度、保险批量工艺一致性。设备实现粒子能量精准可调、超高工艺选择比、底层资料低危险、批次工艺高沉复不变的主题肠能指标，可满足各类高精度刻蚀严苛造程要求。

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