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MARS系列

碳化硅表延系统

MARS系列碳化硅表延系统

MARS Series SiC Epitaxy System

MARS系列是面向碳化硅表延工艺的专用设备，覆盖单腔、双腔两大产品状态，全面适配6/8英寸碳化硅晶圆量产需要，全系选取水平热壁式技术路线，结合先进的控温、控压算法，以及独创的进气与混流结构，使工艺过程中的热场和气流场维吃旖均不变，厚度均匀性、掺杂均匀性、缺点密度等关键工艺指标均达到行业先进水平，可适配N&P碳化硅表延、沟槽填充以及厚膜工艺等多种工艺需要。

设备特点

产品利用

晶圆尺寸
6、8英寸
合用资料
碳化硅
合用工艺
N&P 碳化硅表延/沟槽填充
合用领域
化合物半导体、科研

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