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管式LPCVD设备
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公司名称：
HORIS L12 管式LPCVD设备
HORIS L12 LPCVD System
合用于光伏电池出产，兼容TOPCon、TBC、HTBC等各类工艺路线，利用在氧化硅、多晶硅等工艺
设备特点
多温区多点独立控温炉体，控温精度高，极差幼
多路特殊进气方式以及前后怪异双匀流设计，保险气场均匀性
高强度石英管设计，提升石英管寿命及温度响应速度
易损件资料及结构升级，大幅提升其寿命，降低运营守护成本
技术指标
最高温度650℃
控温精度
±1℃
碎片率
≤0.01%
压升率
≤1Pa/min
合用工艺
氧化硅、多晶硅、掺磷多晶硅、掺硼多晶硅
合用资料
光伏晶硅电池片
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