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HORIS P12
管式PECVD设备
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公司名称：
HORIS P12 管式PECVD设备
HORIS P12 PECVD System
合用于光伏电池出产，兼容TOPCon、TBC、HTBC等各类工艺路线，利用在氮化硅、氧化硅、多晶硅等工艺
设备特点
超长温区高精度多点控温系统，可实现石墨舟急剧起落温
怪异的内循环冷却系统，高效冷却，节能降耗
第三代电极技术，热态在线更换，削减守护功夫
石墨舟治理系统、智能镀膜工艺调整，实现便捷智能化监控和调试
技术指标
最高温度650℃
控温精度
±1℃
碎片率
≤0.01%
压升率
≤1Pa/min
合用工艺
氮化硅、氧化硅、氧化铝、二合一、POLY、掺杂、退火等
合用资料
光伏晶硅电池片
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