mg冰球突破
首页
关于华创
新闻&活动
产品&服务
参与mg冰球突破
投资者关系
切换说话
关于华创
相识华创
品牌释义
企业文化
行业职位
企业荣誉
社会责任
合规申明
新闻&活动
企业新闻
展会活动
产品&服务
半导体设备
真空新能源设备
精密元器件
服务网络
参与mg冰球突破
人才理想
半导体设备
真空新能源设备
精密元器件
人在NAURA
投资者关系
相识华创
品牌释义
企业文化
行业职位
企业荣誉
社会责任
合规申明
企业新闻
展会活动
半导体设备
真空新能源设备
精密元器件
服务网络
产品系列
等离子刻蚀设备 Etch
物理气相沉积设备 PVD
化学气相沉积设备 CVD
湿法设备 WET
键合设备 Bonder
立式炉管设备 Vertical Furnace
离子注入设备 Implant
急剧热处置设备 RTP
表延设备 EPI
利用领域
集成电路 IC
先进封装 Advanced Packaging
化合物半导体 Compound Semiconductor
新兴利用与科研领域设备 Emerging Applications and R&D
客户服务 Services
备品备件 Parts
产品系列
晶体成长设备 Crystal Growth Equipment
炉管设备 Tube Furnace
真空及空气烧结设备 Vacuum & Atmosphere Sintering Equipment
真空及空气焊接设备 Vacuum & Atmosphere Welding Equipment
真空及空气热处置设备 Vacuum & Atmosphere Heat Treatment Equipment
工业薄膜沉积设备 Industrial Thin Film Deposition Equipment
板级封装设备 Panel-Level Packaging Equipment
平板显示设备 Flat Panel Display Equipment
利用领域
光伏 Photovoltaics (PV) Industry
锂电 Li-ion Battery
半导体 Semiconductor
真空电子 Vacuum Electronics
三航两机 Aerospace, Aviation, Marine, Aero-engine and Gas turbine
石墨碳材 Graphite and Carbon Materials
磁性资料 Magnetic Materials
光学镀膜 Optical Coating
职能涂层 Functional Coating
板级封装 Panel-level Packaging
显示 Display
产品系列
表壳 Packages
电阻器 Resistors
电容器 Capacitors
磁心 Magnetic Cores
电感器 Inductors
晶体谐振器 Crystal Resonators
晶体振荡器 Crystal Oscillators
传感器 Sensors
光电子器件 Optoelectronic Devices
微波器件 Microwave Devices
微波组件 Microwave Modules
?榈缭 Power Modules
仿照芯片 Analog ICs
数字芯片 Digital ICs
电源芯片 Power IC
人才理想
半导体设备
真空新能源设备
精密元器件
人在NAURA
参与mg冰球突破
人才理想
人在NAURA
半导体设备
社会招聘
校园招聘
海表招聘
内部推荐
真空新能源设备
社会招聘
校园招聘
内部推荐
精密元件器设备
社会招聘
校园招聘
参与mg冰球突破
人才理想
人在NAURA
搜索
简体中文
English
首页
产品&服务
真空新能源设备
真空及空气烧结设备
无压烧结炉
真空新能源设备 Vacuum Tech
HOITY GS系列
无压烧结炉
联系征询
公司名称:
HOITY GS系列 无压烧结炉
HOITY GS Series Pressureless Sintering Furnace
常压烧结炉合用于半导体、光伏领域碳化硅陶瓷结构件的无压烧结工艺、反映烧结工艺、脱脂烧结工艺。设备选取密封性优良的石墨箱;,有效预防烧结过程中脂类物质的传染;多级脂类物质网络系统,兼容真空、分压、微正压脱脂职能,并配坩埚内表压差平衡装置;加热不变性,大尺寸产品维建单一。
设备特点
选取封关式石墨箱;ぜ澳诒硌共钇胶庾爸,有效预防硅蒸汽侵蚀
设备干净化和高纯选材设计,削减烧结工艺中的杂质引入
提升产制品合格率和设备使用寿命
技术指标
最高工作温度
2000℃
温度均匀性
±5℃~7.5℃
冷态真空度
5Pa
工艺气体
氮气/氩气
升温速度
室温-1000℃≤10℃/min、1000-1500℃≤5℃/min、1500-2000℃≤3℃/min
合用工艺
重要利用于半导体碳化硅陶瓷结构件的反映烧结工艺
合用资料
碳化硅
分享我们:
微信扫一扫
联系mg冰球突破
官方公家号
【网站地图】