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公司名称：
ARCT ED系列 电子束蒸镀设备
ARCT ED Series PVD Equipment
电子束真空镀膜设备，凭借高精度膜厚监控、IAD离子源辅助沉积及全自动智能节造系统，可造备增透/减反膜、高反射膜等光学职能膜，满足光学成像、激鲜明示等场景需要。
设备特点
腔体尺寸φ600-φ2700mm
高精度膜厚监控系统
IAD离子源辅助沉积，高致密膜层
工件架可选择球伞式、行星式或翻转式
全自动智能镀膜节造系统
技术指标
极限真空度7.0×10-5Pa以下；
膜厚均匀性＜±2%
加热温度 max 350°C，温度均匀性＜3%
合用工艺
增透膜/减反膜、高反射膜、AF膜、截止滤光膜、分光滤光膜、窄带滤光膜
合用资料
氧化物、金属、氟化物、硫化物等
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